国家知识产权局11月4日公开一篇《用于测量植物生长条件的装置及方法》发明专利申请，该发明涉及在植物生长基质中植物生长条件的检测。植物生长的管理与操纵日益专业化且精确控制。然而，如果想要以该相当精细的水平完成控制，那么植物生长条件的测量就是至关重要的。该发明提供一种在植物生长基质内检测植物生长条件的装置，所述装置包括：用于插入到基质中的由一个或多个探针形成的第一线性阵列；用于插入到基质中的由一个或多个探针形成的第二线性阵列，其中第二线性阵列以固定距离远离所述第一线性阵列设置；控制单元，其设置为从探针的第一线性阵列获得位于第一基质水平面的至少一种基质特性的第一测量结果，并且从所述探针的第二线性阵列获得位于第二基质水平面的至少一种基质特性的第二测量结果；其中控制单元进一步设置为将在第一和第二基质水平面获得的所述第一和第二测量结果组合，从而根据第一和第二测量结果计算基质的至少一种植物生长条件。与常规用于检测植物生长条件的传感器不同，本发明第一方面的装置获得了至少一个基质特性的多个测量结果。以固定间隔设置两个线性阵列的探针，使得在基质内的不同位置获得两个测量结果。
文章来源：智农361-知识云库
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